美国东北大学科学家主导的国际科研团队发现了一种新形式的高密度硅,并开发出一种新型可扩展的无催化剂蚀刻技术,能将这种硅制成直径为2—5纳米的超窄硅纳米线。研究团队还发明了一种生产硅纳米线的新方法——无需催化剂的化学气相蚀刻,可制造出仅为目前商用硅纳米线1/20到1/10的纳米线。
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