武汉科学技术馆坐落于江岸区赵家条科技馆路，占地面积26623㎡，1987年动工兴建，1990年3月18日开馆，2006年12月30日改扩建重新开馆。主要功能有：科普展览、科技培训、学术交流、青少年科技制作与实验、4D影院、天象馆、科普电子屏、科普画廊等。
    知识经济时代使得科技教育更加富有全民性和终身性。武汉科学技术馆秉承传播科学、寓教于乐的教育思想，通过科普展览、科技培训、学术交流等教育活动，致力于科学方法的传授、科学精神和科学思想的培育，增强公众求知、探索和创造的能力以及参与科技进步的意识，为武汉市社会、经济、文化做出了应有的贡献。先后被武汉市委、市政府命名为“武汉市学生校外教育基地”、“武汉市爱国主义教育基地”，被中国科协命名为“全国科普教育基地”，多次被中国博协评为“先进集体”等。2007年，被武汉市民评为“我最喜爱的博物馆”。
    为了更好的体现武汉科学技术馆的科普特色，彰显科技馆的社会服务功能、社会形象和科普教育品牌，现面向社会征集 “武汉科学技术馆”馆徽标识方案。 
    一、征集内容 
    “武汉科学技术馆”馆徽标识
    二、征集范围 
    全国范围所有专业设计机构和设计爱好者。
    三、征集时间 
    征集活动自即日起至2010年2月13日北京时间17时整截止（以下简称“截止时间”）。任何于截止时间之后送达作品者，无论何种原因，均不具有应征资格。
    四、标识的应用
    经评选的最佳作品，在做必要的修改完善后（如有此必要），最终方案将用于武汉科学技术馆对外宣传的一切领域，包括制作公共标识、单位标牌、信函标记等。
    五、应征作品创作要求 
    1、作品要具有鲜明的象征意义，力求反映武汉科学技术馆特点，凸显武汉科学技术馆全民科普教育理念，充分体现武汉科学技术馆作为华中地区极具影响力的科普教育重要场所的地位，具有地方特色、能展现武汉市综合科技实力。
    2、作品要内涵丰富，创意出色，构图新颖，色彩明快，富有美感、动感和时代感，具有高水平的艺术感染力和视觉冲击力。 
    3、作品的风格、形式不限，但必须是原创。 
    4、设计稿须配设计理念说明。  
    5、图案简洁、明了、大方，应考虑在各种载体和环境中制作运用，适合各种宣传用途，没有违反我国《商标法》。
    六、稿件要求
    1、彩色、黑白设计稿各一份，黑白稿要求是构筑图或网格结构；具有一定的构成规则，构图创意独特，图案清晰流畅，色彩简明大方，寓意贴切，给人以深刻印象。 
    2、电脑绘制，采用彩色图形设计，最多不超过4色,能以不同的比例尺寸清晰显示。 
    3、纸质稿件用A4纸打印，不须装裱。 
    七、作品提交 
    1、应征作品应同时提交纸质稿件和电子稿件。 
    2、每位应证人可提交最多不超过两个设计方案。 
    3、应征组织或个人应在提交征集作品时一并提供以下资料和文件（手写无效）。  
    （1）应征人简介（包括获奖情况）、作品创作理念的描述各一份。  
    （2）应征人姓名（或单位名称）、通讯地址、联系电话和个人有效证件的复印件，以团体名义提交作品的应征人须提交相关资质证明一份。 
    4、作者请自留作品底稿，未入围的作品恕不退还。 
    5、请在信封上注明“武汉科学技术馆馆徽标识作品应征”。 
    八、截稿时间及送达地址 
    1、截稿时间：应征作品须在2010年2月13日北京时间17点整之前送达或邮寄至武汉科学技术馆“武汉科学技术馆馆徽标识作品征集办公室”，截稿时间为稿件送达或寄达时间。 
    2、地址：湖北省武汉市江岸区赵家条104号  武汉科学技术馆
       邮编：430010
    3、电子邮箱：kjgyjch@163.com
    九、评选方法 
    1、由征集人组织相关专家对所有参赛作品进行初选，确定10款入围方案。
    2、对入围的10款方案在武汉科学技术馆及其官方网站、官方网站公示两天，进行市民投票评选。 
    3、由武汉科学技术馆组织知名专家组成评审委员会，对入围的10款方案进行评审，确定1款最佳作品及4款优秀作品。 
    4、武汉科学技术馆拥有决定武汉科学技术馆形象标志的最终权利。 
    5、评选最终结果将通过武汉科学技术馆官方网站、官方网站和有关媒体行公布。 
    十、奖励办法     
    1、对评选为武汉科学技术馆标识方案的最佳作品奖励人民币1万元（大写：人民币壹万元整）。
    2、对评选为武汉科学技术馆标识方案的优秀作品奖励人民币3000元（大写：人民币叁仟元整）。
    3、获奖者需按照国家的有关规定自行纳税。
    4、应征单位及个人在应征过程中产生的一切费用由应征人自理。 
    十一、应征作品注意事项
    1、应征作品不得违反相关法律法规。  
    2、应征作品或任何用于创作参选作品均不得侵犯第三方的知识产权。凡涉及抄袭、借用等侵权行为的，均由应征人承担一切后果，与征集单位无关。 
    3、所有获奖作品的所有权、修改权和使用权均归武汉科学技术馆所有，设计者不得再在其他任何地方使用该设计作品。  
    4、征集结果公布后，未获奖的作品应征人即可自行处理。 
    5、本次征集活动的最终解释权归武汉科学技术馆。 
    十二、联系方式  
    1、联 系 人：施宏  王锐利
    2、联系电话：027-82281050（FAX） 
    3、地址：湖北省武汉市江岸区赵家条104号  武汉科学技术馆 
    4、邮编：430010 
    5、应征者请登录武汉科学技术馆官方网站（http://www.whstm.org.cn/）或官方网站（//www.tgf3.com/）下载征集方案，了解武汉科学技术馆相关信息。 

    附：武汉科技馆概况.doc
  
                                 武汉科学技术馆 
                                 2010年1月15日